第553章 陈敏到来！专家的质疑！（1 / 2）

在孙坚还在忙的时候，陈敏也来到了现场。

他在电话里听孟旭汇报了情况后，立马放下手中的东西，在第一时间就赶了过来。

与此同时，还有好几个老头子也在陈敏长官到达没多久也到了芯片工厂。

“孟旭，事情怎么样了？”

陈敏长官刚来，就迫不及待地询问道。

孟旭没想到陈胜长官居然会带着人来。

这几个人他都认识，是他们双庆大学的教授。

这几个教授从事的，就是半导体行业。

如果说双庆市谁在半导体行业最专业，肯定就是这些教授了。

“陈长官，事情是这样的……”

没有关注教授为什么来这里，接着，孟旭把详细的事情给陈敏长官介绍了一遍。

毕竟当初在电话里，他介绍的也不是特别清楚。

为了节约时间，他也就只能把关键信息介绍了一下。

现在既然陈敏长官来了，她也可以把事情介绍清楚一些。

陈敏长官虽然不是专业从事半导体的专家，但是对于这个行业还是有了解的。

所以对于孟旭最开始在电话里介绍的，他其实是不太相信的。

先不说光刻机的精度，仅仅是凭借星海科技一家公司如果可以研发出光刻机就已经非常不可思议了。

目前市面上最先进的光刻机是asml的光刻机。

但是在其之后，ASmL依然占据了绝大部分的市场。

而东大目前的最先进的光刻机，最先进的光刻机是魔都微电子的SSx600系列。

该系列光刻机采用ArF准分子激光（193nm波长）作为光源。

通过多重曝光技术，可实现28nm制程的批量生产，同时也能覆盖90nm制程需求。

而在同一时间，ASmL公司当时已能生产可用于3nm及以下制程的EUV光刻机。

是全球唯一能供应7nm以下芯片制造所需EUV光刻机的企业。

这还是东大取巧，使用了多重曝光技术，才可以做到28nm。

别看28nm和3nm好像差别不大，其实双方的差距是天差地别的。

除了制程上的差异外，在其他方面也有非常大的差距。

比如在设备性能与技术指标上，国外先进光刻机在光源技术、镜头精度等关键技术指标上优势明显。

ASmL的EUV光刻机光源能达到极紫外波段，且精度控制极高。

而东大光刻机在光源功率、光束稳定性以及镜头的分辨率、套刻精度等方面，与国外先进水平存在差距，影响了整体光刻精度和芯片制造良率。

全球光刻机市场当时基本由荷兰ASmL、小日子尼康和佳能公司垄断，2020年这三大厂商出货光刻机413台，ASmL占258台。

东大光刻机市场占有率较低，且产业链上下游协同不足，关键零部件如高端镜头、光源等依赖进口，产业生态不完善。

当然了，造成这种结果的原因，根本还是早期的时候，研发能力与资金投入差距较大。

ASmL拥有大量研发人员和博士，每年投入营收的10%-15%作为研发资金。

2020年其第三季度研发费用达5.34亿欧元，占总营收的13.49%。

东大光刻机企业研发投入相对较少，整体研发实力和技术储备不足，制约了技术进步速度。

所以，虽然时间已经来到2020年了。

但是东大在光刻机上依然是比较落后的。

东大生产一台28nm制程的光刻机，就已经是东大最先进的。